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pvd真空镀膜工艺参数与您分享pvd真空蒸发镀膜
01、定义
pvd真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。
02、真空蒸发踱膜主要经历
1、采用各种能源方式转换成热能， 加热膜材使之蒸发或升华， 成为具有一定能星 ( 0霉 1/'"->J0 . 3 e V) 的气态粒子（原子、分子和原子团）；
2 、离开膜材表面，具 有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基体表面；
3、到达基体表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜；
4、组 成 薄 膜 的 原子重组排列或产生化学键合；
03、原理及特点
原理：
热蒸发是在真空状况下，将所要蒸锻的材料利用电阻加热达到熔化温度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种锻膜技术。
特点：
设备简单、操作容易
海膜纯度高，质量好， 厚度可控
速率快、、可用掩膜 获得清晰图形
薄膜生长机理比较单纯
缺点：
不易获得结晶结构的薄膜
粘膜与基片附着力小
去毛刺
去毛刺的方法一般有手动清理、半自动轮刷清理以及玻璃珠喷砂处理三种。手动清理很适合硬质合金刀具毛刺的处理，这是由于其刃口处一般毛刺量较少，即使有也很硬，并且脆性大，用半自动轮刷清洗和玻璃珠喷砂处理时极易损伤刃口。半自动轮刷清理一般用于滚齿刀毛刺处理，是将刀具固定在低速转盘上，用不锈钢刷子压在刀齿上进行清理，但这种方法效率较低。玻璃珠喷砂去毛刺是目前涂层行业前处理应用广泛的方法，采用的设备一般为干式喷砂机，砂料为玻璃珠，经去毛刺后刃部刺状物消失、齿间洁净，有利于涂层材料颗粒的沉积。
镭雕
也叫激光雕刻或者激光打标，是一种用光学原理进行表面处理的工艺。
利用激光器发射的高强度聚焦激光束在焦点处 . 使材料氧化因而对其进行加工.打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质,或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质,而“刻”出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 显出所需刻蚀的图形,文字。
PVD基本方法:真空蒸发、溅射bai 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。