净化工程的维护
1、净化空调系统应连续运行，且定期进行清洁维持工作。
2、洁净室必须维持于正压状态，且保证净化工程洁净区应与非洁净区高于10pa。
3、洁净区内的温湿度应做好控制与维持工作，必须根据企业的实际生产需要来设置，一般情况下温度为22——25摄氏度，湿度为40%——60%。
4、净化工程公司设置的流洁净室的缓冲区域应设有明显的标识，各洁净区的门必须保证关闭状态，且进出门不可同时打开。
净化工程中常用的净化设备
风淋传递窗：
1、风淋传递窗根据结构不可分为：风淋传递窗和落地式风淋传递窗；
2、风淋传递窗根据箱体材质不同可分为：不锈钢风淋传递窗、外钢板内不锈钢风淋传递窗等，（传递窗内胆均为砂面不锈钢）；
3、传递窗根据互锁方式不同可分为：电子互锁风淋传递窗及机械互锁风淋传递窗。
FFU 风机过滤单元： FFU英文全称（Fan Filter Unit）具有可模块化连接使用的特点。
净化工程的di一步的关键是设计，工程设计水平的好与坏将直接关系到整个工程之后的施工，还会影响净化工程今后的稳定性、可靠性、经济性。净化工程的等级划分比较的严格，一般按照7个等级进行的划分，分别是1级，10级，100级，1000级，10000级，100000，1000000级，净化安全要求是根据等级来实施的，净化工程等级数越小，级别是越高的，其含尘量越少，排名是靠前的。净化工程技术的兴起不过是上个世纪的事情，但今天净化技术发挥着重要作用则是有目共睹的。二、提高设备水平设备的材质、加工精度、密闭程度以及管理制度都与交叉污染有关。随着产品向着高、1精、1尖方向发展，对净化车间的依赖度也越来越高。
直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产zui佳温度范围为35—45%。现在我们国家的经济科技在发展，同时带动了社会各行各业在告诉发展中。洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。以净化工程这个行业为例，在目前呈现一片喜人的发展态势。