曝光一般在曝光机内进行,目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷,曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、菲林胶片质量等因素。
高精度紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的油墨进行紫外光照射,
3D曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点。
光刻显影曝光系统用于背接触太阳电池背面指交叉图案的制备。包含涂胶匀胶、烘烤、单面曝光和显影等功能单元的整套光刻显影曝光系统在了解曝光显影在蚀刻加工中的作用前,我们要先了解一下什么是曝光显影。简单来说曝光显影是蚀刻加工中确定需要被腐蚀和不被腐蚀部分的工艺,准确的曝光显影才能保证产品的精度。曝光:经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板(即PCB)上。
蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护膜去除,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
蚀刻加工中曝光显影是蚀刻工序前的一步重要的工序,曝光是将需要蚀刻的图案通过光绘转移到两张一样的菲林胶片上,然后通过机器定位或者人工定位的方式去将菲林对准,再将涂布感光油墨的蚀刻片置于菲林中间,固定后进行曝光。曝光后的干膜有些需要放置10~15min后才能显影,这必须根据实际情况,根据干膜的要求执行。
利用稀碱溶液与光致抗蚀剂中未曝光部分的活性基团(羧基)反应,生成可溶性的物质溶于水,而曝光部分的干膜不发生溶解。
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